全自動運行:全自動機械手搬運工件,槽內工藝流程自動運行,工藝期間不需要人員參與。
酸槽清洗:使用化學液配合循環過濾系統對陶瓷零部件表面進行清洗。
化學液回收利用:工藝完成后,化學液經過濾器進入儲液箱,可供下次重復利用。
水槽清洗:配有快速注水(1分鐘之內注滿槽)、慢速溢流(2-10L/Min帶走槽內污染物)、高壓噴淋(0.3-1.2MPa壓力可調)、底部鼓氮(10-100L/Min流量可調)、急速排放(10秒內排空)等多重功能于一身,滿足不同工件的工藝要求。
節水功能:慢速溢流后與噴淋后的DIW可經回收管路進入純水箱,供下次注水使用,可很大程度上節約DIW。
干燥功能:使用高溫N2風配合槽內紅外加熱管進行干燥。
工藝柔性化設計,可設備多組工藝配方,更改方便迅速。
多級別用戶工藝數據庫,可供用戶使用和存儲。
陶瓷零部件清洗機在半導體制造中主要用于清洗高硬度、高光澤、多孔材料的專業設備,確保其表面無污染物,以滿足半導體制造的高潔凈度要求。
通過化學藥液進行表面清洗,結合去離子水(DIW)浸泡,高壓水噴淋,有效去除0.2μm以上顆粒且去除率超過95%,同時支持自動化控制參數如時間、溫度和流量?。并配備超聲波清洗,通過高頻振動在清洗液中產生空化效應,形成數百萬微米級氣泡,氣泡破裂產生強大沖擊力剝離污垢?。
設備骨架采用Q235碳鋼,外噴氟漆處理。主體采用聚丙烯PP板包覆,結構包括自動運行機械臂,槽內旋轉或拋動機構、化學液循環系統,高壓噴頭組件、工件提升裝置、氮氣干燥管路,以及化學液回收箱?。
| 清洗能力 | 各種陶瓷零部件(如碳化硅陶瓷、氧化鋁陶瓷) |
| 配液方式 | 自動配液、自動補液 |
過濾精度 | 0.05-0.2μm |
| 循環流量 | 15-30L/min |
| 干燥溫度 | 60-80℃ |
| 槽體材質 | SUS316L、PVDF、NPP |
| 安全防護功能 | 運動機構安全連鎖,機械防護罩,漏液監測,氣壓報警,水壓報警,風壓報警 |
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